<th id="3iytd"><track id="3iytd"><rt id="3iytd"></rt></track></th>

<tbody id="3iytd"><track id="3iytd"></track></tbody>

<dd id="3iytd"></dd>
<button id="3iytd"><object id="3iytd"></object></button>
<rp id="3iytd"><ruby id="3iytd"><u id="3iytd"></u></ruby></rp>
    1. <nobr id="3iytd"><wbr id="3iytd"></wbr></nobr>

      文章詳情
      所在位置: 首頁> 技術文章> 其它>

      真空鍍膜設備的產品特點

      日期:2022-06-20 00:12
      瀏覽次數:247
      摘要:
          真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

      產品特點

          采用箱式結構,真空系統后置,便于操作和維修;整機表面平整,方便清潔,特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。

          設備真空系統抽速大,具有抽氣時間短,真空度高,生產周期短等優點。

          采用管狀加熱器上烘烤,烘烤溫度均勻,壽命長,可達到烘烤溫度350℃,烘烤均勻性270℃±10℃。

          工件轉動采用上部中心驅動,軸承帶水冷,磁流體密封,轉動平穩。

          采用石英晶體膜厚控制儀,可實現鍍膜過程的自動控制。

          采用鍍膜控制系統,人機操作界面美觀實用,系統穩定,可實現系統的手動、半自動和全自動操作。

      尊敬的客戶:

        本公司還有快速退火爐、等離子清洗機、磁控濺射鍍膜儀等產品,您可以通過網頁撥打本公司的服務電話了解更多產品的詳細信息,至善至美的服務是我們的追求,歡迎新老客戶放心選購自己心儀產品,我們將竭誠為您服務!

      豫公網安備 41019702002438號

      黑人巨大精品欧美一区二区